化學工藝的持續發展，特別是在半導體和太陽行業中，對所用真空泵不斷地提出新的要求。基于多級羅茨泵的可靠技術，普發真空憑借其 H 系列為這些行業領域中的苛刻工藝提供完美的解決方案。與先前泵解決方案相比，過程壓力下的氣體吞吐量、粒子耐受性和耐冷凝性已顯著提高。

與 P（用于一般工藝）系列泵一樣，H 系列（用于苛刻工藝）泵配備了溫度控制和惰性氣體沖洗系統。但是，用于優化工藝調節的參數范圍比 P 系列泵更廣。

該泵系列是基于 A 203 H 空運行流程泵。我們已采用了該系列的另外三個型號并輔以羅茨泵用于過程壓力范圍內提高了的抽速和氣體吞吐量。由于使用了特殊材料，這些泵的腐蝕性氣體設備使其還可使用強氧化劑，如 NF3。該泵廣泛的溫度范圍使其能夠適應各種不同的工藝，如低溫下的鎢沉積或高溫下的氮化物沉積。高效的電機產生低壓力下的能源節約，并因其高扭矩，在泵停機后提供良好的啟動性能。

得益于它們相同的接口和相同的介質連接，A3H 系列型號可與 P 系列泵理想兼容。這意味著，如果現有生產設備上發生工藝改變，通過更換泵，使用z*小的安裝工作就可獲得優化的泵解決方案。

使用第三級羅茨輔助 A 1803 H 型號，可提供緊湊、極其強大的泵站，具有z*大抽速，適合于 CVD 工藝。AD 73 KH在空運行流程泵上采用變頻控制的羅茨泵，羅茨泵在其本身的框架內具有額定抽速 4,500 m3 · h-1。由于模塊化結構，安裝很容易，且泵站中的各個泵可單獨取出，并在維修工作進行的情況下進行保養。進氣側的羅茨泵變頻器允許在廣泛的氣體吞吐量范圍對過程參數進行調整，并允許各種不同的過程氣體。

普發真空不斷監測行業各個領域中工藝的動態發展，并在未來將繼續提供優化的泵解決方案以滿足這些需求。