離子源用于檢查 UHV 或者甚至 XHV 應用中的殘余氣體。其極其開放的結構和材料的選擇確保了非常低的內部氣體排放。該離子源配備了兩個可同時加熱脫氣的鎢絲。

如果在低于 10 -11 hPa 的壓力下執行工作，特別是為此目的，應使用已經充分脫氣的桿系統。在低于 10-10 hPa 壓力范圍內的測量可能受到所謂的 EID（電子碰撞解吸）離子的歪曲。[32]。這些 (H+, O+, F+, Cl+) 離子直接通過表面的電子碰撞進行解吸，通常具有高產量。EID 離子來自 UHV 設備早期歷史中的吸附涂層或離子源，通常具有幾個 eV 的初始能量。此屬性通過仔細選擇場軸電壓來加以利用，以抑制相對于來自氣相、具有能量大約為 100 eV 離子的 EID 離子（Figure 6.10）。