待分析的氣體通常必須從大氣氣壓下降到低于質譜儀 (MS) 工作壓力的壓力。由質譜儀監測的許多真空技術工藝發生在 p> 10-4 hPa 的壓力范圍內。因此，四級桿質譜儀的基本要素是根據特殊的應用配備合適的進氣系統。可使用各種減壓程序，這取決于所涉及的壓力梯度。

氣體混合物應該允許進入質譜儀而無需去混，如條件允許：
■■ 在壓力 p > 10 hPa 時，壓力通過（可加熱的）毛細管降低，其中，層流占主導地位，具有下游進氣閥。在某些情況下，需要通過額外的泵來降低壓力。
■■ 在壓力 p < 10 hPa 時，使用節流孔和質譜儀降低壓力，并使用渦輪分子泵對質譜儀進行差動排氣。
■■ 在壓力 p < 10-4 hPa 時，質譜儀可以直接安裝具有開放式離子源的工藝室中。

如果使用節流孔降低壓力，其氣體類型有關的電導率被朝向泵的流道的氣體類型有關的電導率抵消，這意味著，QMS 中的濃度反映真實的氣體組成。